Alimentazione elettrica a sputtering
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Alimentatore per sputtering a media frequenza serie MSB
L'alimentatore RF della serie RHH si basa su una tecnologia RF di ultima generazione per fornire ai clienti un alimentatore RF con maggiore potenza, maggiore precisione e risposta rapida. È dotato di funzione di impostazione della fase, controllo degli impulsi, sintonizzazione digitale e altre funzioni. Campi di applicazione: industria fotovoltaica, industria dei display a schermo piatto, industria dei semiconduttori, industria chimica, laboratori, ricerca scientifica, produzione, ecc.
Processi applicabili: deposizione chimica da vapore migliorata al plasma (PECVD), incisione al plasma, pulizia al plasma, sorgente di ioni a radiofrequenza, diffusione al plasma, sputtering di polimerizzazione al plasma, sputtering reattivo, ecc.
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Alimentatore per sputtering serie MSD
L'alimentatore a sputtering CC della serie MSD adotta il sistema di controllo CC core dell'azienda, combinato con un eccellente schema di elaborazione dell'arco, garantendo al prodotto prestazioni estremamente stabili, elevata affidabilità, danni da arco ridotti e buona ripetibilità del processo. Interfaccia display in cinese e inglese, facile da usare.