Alimentatore sputtering a media frequenza serie MSB

Breve descrizione:

L'alimentatore RF della serie RHH si basa su una tecnologia di generazione RF matura per fornire ai clienti un alimentatore RF con maggiore potenza, maggiore precisione e risposta rapida.Con la fase è possibile impostare, controllare gli impulsi, sintonizzazione digitale e altre funzioni.Campi applicabili: industria fotovoltaica, industria dei display a schermo piatto, industria dei semiconduttori, industria chimica, laboratorio, ricerca scientifica, produzione, ecc.

Processi applicabili: deposizione chimica in fase vapore potenziata dal plasma (PECVD), incisione al plasma, pulizia al plasma, sorgente ionica a radiofrequenza, diffusione al plasma, sputtering di polimerizzazione al plasma, sputtering reattivo, ecc.

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Caratteristiche

● Stili di montaggio half-brick e rack

● Adotta il controllo digitale completo, con un menu operativo comodo e ricco

● Funzioni di sintonizzazione della frequenza, impulsi e sincronizzazione degli impulsi

● Con funzione di sincronizzazione di fase CEX

● Funzione di protezione perfetta

Dettagli del prodotto

Ingresso	Tensione in ingresso: AC220V±10% 3ΦAC380V±5% (le specifiche speciali possono essere personalizzate)
Ingresso	Frequenza di ingresso: 47~63Hz
Produzione	Frequenza di uscita: 13,56 MHz, 27,12 MHz, 40,68 MHz
	Intervallo di sintonizzazione: ±5%
	Potenza in uscita: 1,5~5kW
	Intervallo di regolazione della potenza in uscita: 1~100%
	Impedenza di uscita: 50Ω+j0
	Interfaccia di uscita: tipo N
	Modalità di uscita: continua, impulsiva
	Frequenza degli impulsi: 100 Hz ~ 100 kHz
	Ciclo di lavoro: 5~95%
Indice di prestazione	Fattore di potenza: 0,98
	Precisione della stabilità della frequenza: ±0,005%
	Efficienza: 75% (alla potenza nominale)
	Armonica: ＜-45dBc
	Dispersione: ＜-50dBc
	Interfaccia di controllo esterna: quantità analogica, comunicazione e sincronizzazione
	Modalità di comunicazione: interfaccia di comunicazione standard RS485;CAT Ether opzionale, Ethernet industriale, ecc.
Nota: il prodotto continua a innovarsi e le prestazioni continuano a migliorare.La descrizione di questo parametro è solo di riferimento.